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發(fā)布時間：2021-02-26磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備的優(yōu)點
磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備，磁控濺射具有以下兩大優(yōu)點：提高等離子密度，從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數(shù)目，因而降低了基材因電子的升溫。
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發(fā)布時間：2021-01-22真空鍍鋁設(shè)備的2種形式及優(yōu)勢
真空鍍鋁設(shè)備品種多樣，有多弧離子真空鍍膜機、卷繞鍍膜機、電阻蒸發(fā)真空鍍膜機、 ??超硬質(zhì)工具鍍膜機等其他零配件的技術(shù)及新型的材料，使得工藝產(chǎn)品的質(zhì)量大大提高。 ??真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射，這兩種都可鍍成相應(yīng)的顏色。真空蒸發(fā)鍍膜更為廣泛，常用電阻加熱法，
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發(fā)布時間：2021-01-22磁控濺射鍍膜設(shè)備能夠應(yīng)用于哪些方面呢?
磁控濺射鍍膜設(shè)備在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：比如說切削工具、磨具和耐磨耐腐蝕等配件。在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。
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發(fā)布時間：2021-01-12真空卷繞鍍膜機有哪些類型，以及它的原理?
蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備根據(jù)蒸鍍工藝可分為連續(xù)式、半連續(xù)式和間歇式三種，因設(shè)備結(jié)構(gòu)不同還可分為：單室、雙室和多室卷繞鍍膜設(shè)備
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發(fā)布時間：2021-01-12卷繞鍍膜機卷膜條件
卷繞鍍膜機卷膜條件： 卷膜有效幅寬 1050mm 卷膜大直徑 ф400mm 卷繞芯軸直徑 ф100mm(3寸不銹鋼芯軸)
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發(fā)布時間：2021-01-12磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程
磁控濺射鍍膜設(shè)備配合NCVM工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術(shù)性，好地滿足消費者的個性化需求
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發(fā)布時間：2020-12-28多弧離子鍍膜機的應(yīng)用范圍
?多弧離子鍍膜機的應(yīng)用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。
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發(fā)布時間：2020-12-28淺析真空鍍膜機的原理
真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大工作原理。
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發(fā)布時間：2020-12-16多弧離子鍍膜機幾種排氣方法
多弧離子鍍膜機的抽真空通常采用下面幾種排氣方法：單純排氣工藝、抽空加熱排氣工藝、空氣預(yù)加熱排氣工藝。
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發(fā)布時間：2020-12-16磁控濺射鍍膜機磁控濺射技術(shù)的應(yīng)用范圍
磁控濺射目前是一種應(yīng)用十分廣泛的薄膜沉積技術(shù)，濺射技術(shù)上的不斷發(fā)展和對新功能薄膜的探索研究，使磁控濺射應(yīng)用延伸到許多生產(chǎn)和科研領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積(CVD)或金屬有機化學(xué)氣相沉積(MOCVD)生長及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
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發(fā)布時間：2020-12-09真空PVD鍍膜設(shè)備鍍前預(yù)處理和鍍后處理方法
PVD鍍膜設(shè)備鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面，為獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備，要進(jìn)行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。
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發(fā)布時間：2020-12-09PVD鍍膜設(shè)備廠家告訴你保養(yǎng)秘訣
許多人對于真空鍍膜設(shè)備的保養(yǎng)都是不重視的，這就導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備容易出現(xiàn)很多問題，那么真空鍍膜設(shè)備的保養(yǎng)秘訣是什么呢?下面PVD鍍膜設(shè)備廠家告訴你。
肇慶高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司 