磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程

磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下：

　　磁控鍍膜機(jī)陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預(yù)濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗(yàn)→性能測試→包裝、入庫。

　以上工藝技術(shù)就是以磁控濺射鍍膜設(shè)備為基礎(chǔ)，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實(shí)現(xiàn)材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性;同時，利用NCVM光學(xué)膜結(jié)構(gòu)設(shè)計，設(shè)計出各層不同折射率材料，可以調(diào)配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強(qiáng)度高，具備外觀件時尚、美觀的特點(diǎn)，而且不會屏蔽電磁信號。

　　磁控濺射鍍膜設(shè)備配合NCVM工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)對于陶瓷電子消費(fèi)品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強(qiáng)度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術(shù)性，滿足消費(fèi)者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下，通過相應(yīng)的物理化學(xué)手段來對金屬材料進(jìn)行轉(zhuǎn)換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，NCVM的技術(shù)含量更高，加工流程也更加復(fù)雜。

　　磁控濺射鍍超硬膜，結(jié)合NCVM光學(xué)鍍膜技術(shù)，其鍍層具有優(yōu)異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點(diǎn)，已在電子產(chǎn)品中獲得大量應(yīng)用。隨著電子工業(yè)的迅猛發(fā)展，NCVM鍍膜憑借本身優(yōu)越的性能，在真空電鍍技術(shù)領(lǐng)域脫穎而出，成為了電子消費(fèi)品生產(chǎn)中的一項(xiàng)核心技術(shù)，在保證良好處理效果的同時，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害，對其環(huán)境污染問題進(jìn)行解決。