淺析磁控鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素

      2020-09-16  來自: 肇慶高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1227

        淺析磁控鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素

        (1) 靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用,其峰值電壓大體可分為三擋,即:800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。

        (2) 大約在5KW以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值Vp-p大約在800~1KV;且電源功率越大, 其輸出的空載電壓越接近偏小值。

        (3) 鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材,在選用靶電源輸出的空載電壓時,須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值Vp-p范圍的偏大數(shù)值。

      關(guān)鍵詞: 磁控鍍膜機(jī)           

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