淺析磁控鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素
2020-09-16 來(lái)自: 肇慶高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1256
淺析磁控鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓影響因素
(1) 靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點(diǎn)火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。
(2) 大約在5KW以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值Vp-p大約在800~1KV;且電源功率越大, 其輸出的空載電壓越接近偏小值。
(3) 鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材，在選用靶電源輸出的空載電壓時(shí)，須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值Vp-p范圍的偏大數(shù)值。
上一條 ：
多弧離子鍍膜機(jī)的應(yīng)用范圍
下一條 ：
真空鍍膜機(jī)在塑料外表上鍍...
產(chǎn)品展示
產(chǎn)品展示