磁控鍍膜機膜色出現差異原因及改善對策

　　磁控鍍膜機膜色出現差異原因及改善對策

　　膜色差異有二種(不包含色斑)，一種是整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異;二是單片膜色不一致。

　　1.上中下膜色不一致稱為整傘(罩)均勻性不好，也稱有傘差。主要產生原因是均勻性修正板(補正板)有問題。

　　2.傘片變形。也是膜色不勻的原因之一，特別是使用了較久的傘片，以往是均勻的，慢慢變得不均勻了，傘片變形就可能是主要原因了。

　　3.膜料狀況的不一致，特別是升華和半升華膜料被打偏，挖坑等也會嚴重影響整罩和單片的均勻性。特別是有大量手工預熔時，各人的操作手法不一，得到的料況也會不一。

　　改善思路：充分采用修正板的功能。

　　改善對策：

　　㈠ 調整修正板，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有二個蒸發源，可能的條件下，獨立使用各自的修正板，避免干擾。

　　㈡ 條件許可，采用行星夾具。

　　㈢ 傘片整形，對傘片整形可以先加工一個R基模(選擇強度較高的原材料)，在基模上對傘片整形。為防止減少傘片變形，在傘片訂購時對傘片的厚度、原材料選擇要合適。

　　㈣ 加強傘片管理，特別是擺放時的管理，防止因擺放不當而變形。

　　㈤ 改善膜料狀況，特別是電子槍蒸鍍升華、半升華材料時，不能把膜料打塌，挖坑。

　　㈥ 能夠自動預熔的膜料，盡量自動預熔，減少人為因素影響。

　　修正板對物理膜厚的修正很有效，但對折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。

　　如果一個修正板要對應二把電子槍(蒸發源)、以及多種膜料，就會有較大的困難。

　　對于單片膜色不均勻產生的原因：

　　主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發源構成的蒸發角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。

　　另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。

　　改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發角。

　　改善對策：

　　㈠ 條件許可，用行星夾具;

　　㈡ 選用傘片平坦(R大)的機臺;

　　㈢ 根據傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。

　　㈣ 如果有可能，把蒸發源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。

　　㈤ 改善鏡圈(碟片)，防止遮擋。

　　㈥ 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋

　　㈦ 清潔鏡圈(碟片)

　　㈧ 改善膜料蒸發狀況。