磁控鍍膜機的濺射方式有哪些
2020-09-03 來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:938
下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。
主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.
現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點.
直流濺射發展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.
而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材中毒等現象.
而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.
上一條 ：
磁控鍍膜機如何提高使用效率
下一條 ：
淺析真空磁控鍍膜機檢漏方法