pvd真空電鍍淺析PVD技術的發展與應用

　　隨著PVD技術應用的迅速推廣，吸引了國內外專家們和相關企業積極研發，至今無論是PVD沉積技術、PVD的制備工藝，還是PVD設備配套裝備與部件，都有了長足的進步。

　　1. 冷陰極電弧

　　陰極電弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態，從而實現薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發源有新的發展，主要是通過有效強制冷卻和電磁場獨特的設計，在兩者共同作用下，使靶材的離化率更高，薄膜性能更加優異。

　　2. 磁過濾陰極弧

　　配以高效的電磁過濾系統，將電弧產生的等離子體中的中性宏觀粒子、分子團等大顆粒過濾干凈，經磁過濾后沉積粒子的離化率， 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與基體的結合力更強。

　　3. 柱狀或平面狀大面積電弧源

　　保證高離化率的同時，減少大顆粒沉積的比例，達到既有好的附著力，又有較好的表面光潔度效果。

　　4. 中頻磁控濺射

　　增加離化率，減少電荷積累引起的異常放電，預防靶表面中毒現象，沉積工藝更穩定。

　　5. 全封閉非平衡磁控濺射

　　通過全封閉非平衡電磁場的作用，提高真空室內的離化率以及沉積速率，增強膜基結合力和薄膜沉積的均勻性。

　　6. 脈沖高能窄峰直流濺射

　　提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%)，接近電弧的離化率。通過電磁場的作用可以大大增加沉積離子的能量，從而改善膜層的結合力和致密性。

　　7. 陽極層離子源輔助沉積

　　提高轟擊清洗的質量，特別是可以實現對非導體的鍍前清洗，鍍膜時輔助沉積，提高沉積粒子的能量，改善膜層的結合力。

　　8. 納米復合多層膜

　　納米沉積技術，是涂層結構未來的發展方向，通過納米級厚度的不同成份沉積層復合結構膜，實現涂層性能的增強。

　　9. 裝飾性雙色間鍍

　　單一的顏色PVD涂層已滿足不了市場的需求，進而提出雙色間鍍的要求，這是裝飾涂層的發展方向，雙色間鍍的質量成為代表PVD加工企業的生產技術水平標志。

　　10. 高能脈沖疊加直流偏壓

　　減少工件的打火，增加沉積離子能量，增強膜基結合力，提高沉積速率。

　　11. 超低溫捕集泵

　　通過低溫冷凝效應，迅速捕集真空系統內的殘余氣體，特別是水蒸汽，大大縮短抽真空的時間，獲得潔凈的真空環境。

　　12. 分子泵及深冷泵

　　綠色環保，大大降低能耗，真空系統抽速穩定，鍍膜工藝穩定可靠，重現性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體，保證真空系統的潔凈度。