多弧鍍膜機(jī)工作原理

　　多弧鍍膜機(jī)工作原理

　　多弧鍍膜機(jī)是一種高效、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。

　　真空多弧鍍膜機(jī)偏壓電源的作業(yè)原理

　　離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關(guān)于導(dǎo)電靶材，運(yùn)用直流偏壓電源;非導(dǎo)電靶材，運(yùn)用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機(jī)，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

　　偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構(gòu)成偏壓電場，通常是陰極加負(fù)高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅(qū)出的電子被電場加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構(gòu)成雪崩效應(yīng)，氣體被擊穿，構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅(qū)除出外表，并堆積在樣品外表。