真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)?介紹
2017-12-26 來(lái)自: 肇慶高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1350
VZS-500/VZS-600 高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)采用完全封閉的系統(tǒng)框架，結(jié)構(gòu)緊湊，外觀更漂亮，使用更安全。6-10KW e型電子槍可選國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口，可選配離子束清洗及輔助鍍膜功能。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于科研院所、高校在片狀、半球狀、異形基底表面制備金屬/化合物(ITO等氧化物)/導(dǎo)電薄膜/光學(xué)薄膜等。
主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì)：
完全封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計(jì)，外觀更漂亮，使用更安全;是一臺(tái)兼具美學(xué)和用戶操控體驗(yàn)的全新升級(jí)產(chǎn)品;
前開門真空腔體，方便取放基片、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù);
1200L/s或1600 L/s分子泵作為主抽泵，真空極限高達(dá)5×10-5Pa(3.75×10-7Torr);另可選進(jìn)口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵，真空極限高達(dá)3×10-6Pa(2×10-8Torr);
6～10KW e型電子槍，4-8穴坩堝可選;
最大180mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃30片/拱形或半球形樣品架，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;基片臺(tái)公轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0～25rpm連續(xù)可調(diào);平板基底襯底可選擇加熱或水冷;
更優(yōu)的薄膜均勻性和重復(fù)性，采用進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測(cè)和控制蒸發(fā)速率、膜厚;
可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ti, Pt, Mo, Fe, Cr, Ni等)、化合物(ITO等)及有機(jī)物材料(進(jìn)口電子槍);