蒸發鍍膜機的性能
2017-09-26 來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:1353
通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。
蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。蒸發式鍍膜機常用蒸發源是用來加熱膜材使之汽化蒸發的裝置。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發系統包括蒸發源和加熱蒸發源的電氣設備。
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