多弧離子鍍膜機(jī)的電弧蒸發(fā)源原理

　　多弧離子鍍膜機(jī)的電弧蒸發(fā)源原理是通過一個(gè)冷陰極自持電弧放電，是一種場致發(fā)射。蒸發(fā)源的典型的基本配置為：受鍍基材與陰極相接，陽極接真空室，待真空室抽到到高些的真空狀態(tài)、觸發(fā)電極啟動器接觸打開，形成一個(gè)穩(wěn)定的電弧放電于陽極和陰極之間。而在陰極的表面覆蓋有很多快速移動的陰極斑，斑直徑在1μm到兩微米之間，還有直徑約10μm的光斑，有每秒移動幾十米的速度，電流之間密度為10 A/cm-10 A/cm，極間電壓也降低到20V-40V之間。

　　于陰極斑的前面是一些等離子體，電子飛速移至陽極，離子是處于一種相對靜止在鍍膜空間中，陰極斑前方的正離子集合成正空間電荷，于陰極表面附近形成10 v/cm10 v/cm的強(qiáng)度電場，用以克服在陰極的勢壘，以強(qiáng)電子發(fā)射來維持放電，但一些離子因?yàn)楸魂帢O轟擊而導(dǎo)致了陰極斑的局部快速蒸發(fā)、離化，從而使陰極斑變?yōu)槲Ⅻc(diǎn)的蒸發(fā)源。在陰極靶的范圍內(nèi)，由于絕緣屏蔽和磁場的作用而使這些微點(diǎn)蒸發(fā)源在該范圍內(nèi)做無規(guī)則運(yùn)動，也就形成了均勻的大面積蒸發(fā)源。

　　所謂多弧離子鍍膜機(jī)就是用多個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設(shè)備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等