真空鍍膜設備有哪些特點呢

　　真空鍍膜設備有哪些特點呢

　　1、由于真空鍍膜設備的不斷改進，鍍膜過程可以實現連續(xù)化，從而大大地提高產品的產量，而且在生產過程中對環(huán)境無污染。

　　2、各種真空鍍膜設備技術都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。

　　3、每種真空鍍膜設備的薄膜都可以通過微調閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質量分數降低到最小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現的。

　　4、由于在真空鍍膜設備，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。

　　5、各種真空鍍膜設備技術都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。